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KATHARINA NÖSGES, M. SC.
Wissenschaftliche Mitarbeiterin
Adresse:
Ruhr-Universität Bochum
Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik
Lehrstuhl für Angewandte Elektrodynamik und Plasmatechnik
Universitätsstraße 150
D-44801 Bochum
Raum:
ID 1/533
Telefon:
(+49)(0)234 / 32 – 29478
Fax:
(+49)(0)234-32-14230
E-Mail:
noesges(at)aept.rub.de
Veröffentlichungen
Hartmann, P., Wang, L., Nösges, K., Berger, B., Wilczek, S., Brinkmann, R. P., Mussenbrock, T., Juhasz, Z., Donkó, Z., Derzsi, A., Lee, E., & Schulze, J. (2021). Control of electron velocity distributions at the wafer by tailored voltage waveforms in capacitively coupled plasmas to compensate surface charging in high-aspect ratio etch features. Journal of Physics D: Applied Physics, 54, 255202. https://doi.org/10.1088/1361-6463/abf229 Cite
Hartmann, P., Wang, L., Nösges, K., Berger, B., Wilczek, S., Brinkmann, R. P., Mussenbrock, T., Juhasz, Z., Donkó, Z., Derzsi, A., Lee, E., & Schulze, J. (2020). Charged particle dynamics and distribution functions in low pressure dual-frequency capacitively coupled plasmas operated at low frequencies and high voltages. Plasma Sources Science and Technology, 54, 075014. https://doi.org/10.1088/1361-6595/ab9374 Cite
