DAVID SCHU­LEN­BERG, M. SC.

Wis­sen­schaft­li­cher Mit­ar­bei­ter

Adresse:
Ruhr-Uni­ver­si­tät Bo­chum
Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik
Lehr­stuhl für All­ge­mei­ne Elek­tro­tech­nik und Plas­ma­tech­nik (AEPT)
Uni­ver­si­täts­stra­ße 150
D-44801 Bo­chum

Raum:
ID 1/118

Te­le­fon:
(+49)(0)234 / 32 – 23122

Fax:
(+49)(0)234-32-14230

E-Mail:
schulenberg(at)aept.rub.de

Veröffentlichungen

Daksha, M., Derzsi, A., Zaka-ul-Islam, M., Schulenberg, D., Berger, B., Donkó, Z., & Schulze, J. (2019). Material dependent modeling of secondary electron emission coefficients and its effects on PIC/MCC simulation results of capacitive RF plasmas. Plasma Sources Science and Technology, 28(3), 034002. https://doi.org/10.1088/1361-6595/ab094f Cite
de_DE