A consortium consisting of research groups at RUB that includes engineers (Plasma and Microsystems) and chemists (Inorganic Materials Chemistry) have been granted a new project “ForLab PICT2DES” funded by the Bundesministerium für Bildung und Forschung (BMBF). This is one among the twelve ForLabs in Germany that have been granted by the BMBF.

Vorteile und Herausforderungen dünner Schichten 

The granted 4 million Euros by the BMBF is to acquire a unique cluster tool that integrates Atomic Layer Deposition (ALD), Atomic Layer Etching (ALE), Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD), Reactive Ion Etching (RIE) and in-situ plasma diagnostics. This state-of-the-art tool will be employed for the deposition of 2D-materials, etching, passivation and subsequently device structures will be fabricated that will play an important role in the future for various applications in the field of microelectronics, optoelectronics, sensors, energy etc. The interdisciplinary research activities starting from precursors chemistry to materials development followed by process diagnostics and device fabrication will be the key to realize the goals of various projects that will be carried using the “ForLab- PICT2DES” cluster tool at RUB. 

Träger wandern von einer Kammer in die andere 

Within this project AEPT is responsible for modifying the plasma sources of the Clustertool to allow plasma diagnostic access, for characterizing such plasmas as a function of external control parameters, and to develop new/optimized concepts for various plasma processes to be performed in the cluster tool based on a fundamental understanding of the plasma science.
Während Prof. Dr. Martin Hoffmann und Dr. Claudia Bock von der Anwenderseite auf die so entstehenden 2D-Materialien blicken, beschäftigt sich Prof. Dr. Anjana Devi von der Arbeitsgruppe Chemie Anorganischer Materialien mit der Entwicklung neuartiger Materialsysteme, in denen noch sehr viel Potenzial steckt, und der zugrunde liegenden Präkursorenchemie. 
Das Team von Prof. Dr. Peter Awakowicz und Dr. Julian Schulze am Lehrstuhl Allgemeine Elektrotechnik und Plasmatechnik erforscht die Diagnostik, Optimierung und Entwicklung von neuen Prozessen in Plasmen, mit denen sich gezielt Strukturen atomlagengenau ätzen lassen. Die neue Anlage steht RUB-intern, aber auch darüber hinaus interessierten Forscherinnen und Forschern für Kooperationen offen und wird von den beteiligten Antragstellern gemeinsam beschafft und betrieben. 

Forschung auf internationalem Niveau 

Hintergrund der Initiative des Bundesministeriums für Bildung und Forschung ist, in Deutschland und Europa Forschung auf internationalem Niveau im Bereich Mikroelektronik zu ermöglichen. Die „Forschungslabore Mikroelektronik Deutschland“ vernetzen sich untereinander und mit externen Partnern für einen besseren wissenschaftlichen Austausch und stärkere Kooperation. Basis für die Förderung durch das BMBF ist die disziplinenübergreifende Kooperation der Antragsteller von der Chemie über die Plasmatechnik bis hin zur Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik und die Expertise auf diesen Gebieten. Darüber hinaus ist das Labor angebunden an das Materials Research Department und das Zentrum für Grenzflächendominierte Höchstleistungswerkstoffe unter Leitung von Prof. Dr. Alfred Ludwig sowie an das Research Department Plasmas with Complex Interactions.

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