ForLab PICT2DES

Forschungslabor Mikroelektronik Bochum für 2D-Elektronik

2D-Materialien sind aus einzelnen Atomlagen aufgebaut und sollen ungeahnte Anwendungen für Mikroelektronik und Elektroniksysteme erschließen. Um sie zu erforschen, bekommt die Ruhr-Universität Bochum (RUB) ein sogenanntes Clustertool, das unterschiedliche Prozesse in einer Vakuumanlage vereint und so einzigartige Prozessabläufe für 2D-Materialien ermöglicht. Das Labor namens „Pict2Des“ ist eines von zwölf in Deutschland, die das Bundesministerium für Bildung und Forschung (BMBF) fördert. Rund 4 Millionen Euro fließen dafür an die RUB.

Vorteile und Herausforderungen dünner Schichten 

Aus einzelnen Atomlagen aufgebaute und nanostrukturierte Materialien erlauben neue Bauelemente für Mikro- und Optoelektronik sowie Sensoren der Zukunft. Ihre Vorteile sind vielfältig: Indem man solche dünnen Schichten zum Beispiel auf Folien aufbringt, kann man elektronische Bauteile flexibel machen. Da die Schichten so dünn sind, wird darüber hinaus bei ihrer Herstellung kaum Material verbraucht, ein wesentlicher Beitrag zur Ressourceneffizienz.

Träger wandern von einer Kammer in die andere 

Die an der RUB geplante Anlage besteht aus fünf Vakuumkammern, die sternförmig um einen Roboter herum angeordnet sind. Zwei von ihnen dienen der Beschichtung mit 2D-Materialien, eine dazu, Schutzschichten darauf aufzubringen, und zwei weitere zum zielgenauen Ätzen von Nanostrukturen. Die Substrate wandern im Vakuum von einer Kammer in die andere.
Während Prof. Dr. Martin Hoffmann und Dr. Claudia Bock von der Anwenderseite auf die so entstehenden 2D-Materialien blicken, beschäftigt sich Prof. Dr. Anjana Devi von der Arbeitsgruppe Chemie Anorganischer Materialien mit der Entwicklung neuartiger Materialsysteme, in denen noch sehr viel Potenzial steckt, und der zugrunde liegenden Präkursorenchemie. 
Das Team von Prof. Dr. Peter Awakowicz und Dr. Julian Schulze am Lehrstuhl Allgemeine Elektrotechnik und Plasmatechnik erforscht die Diagnostik, Optimierung und Entwicklung von neuen Prozessen in Plasmen, mit denen sich gezielt Strukturen atomlagengenau ätzen lassen. Die neue Anlage steht RUB-intern, aber auch darüber hinaus interessierten Forscherinnen und Forschern für Kooperationen offen und wird von den beteiligten Antragstellern gemeinsam beschafft und betrieben. 

Forschung auf internationalem Niveau 

Hintergrund der Initiative des Bundesministeriums für Bildung und Forschung ist, in Deutschland und Europa Forschung auf internationalem Niveau im Bereich Mikroelektronik zu ermöglichen. Die „Forschungslabore Mikroelektronik Deutschland“ vernetzen sich untereinander und mit externen Partnern für einen besseren wissenschaftlichen Austausch und stärkere Kooperation. Basis für die Förderung durch das BMBF ist die disziplinenübergreifende Kooperation der Antragsteller von der Chemie über die Plasmatechnik bis hin zur Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik und die Expertise auf diesen Gebieten. Darüber hinaus ist das Labor angebunden an das Materials Research Department und das Zentrum für Grenzflächendominierte Höchstleistungswerkstoffe unter Leitung von Prof. Dr. Alfred Ludwig sowie an das Research Department Plasmas with Complex Interactions.

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