IEDF Sensor
Wafer-Level Sensorstruktur zur Bestimmung von Ionenenergie- und Ionenwinkelverteilungsfunktionen in Niederdruckplasmen
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Mehrskalen-Transportmodellierung: Von Prozessplasmen zu resistiv schaltenden Bauelementen
Mithilfe der MRP können plasmagestützte Oberflächenbehandlungen direkte innere Größen echtzeitfähig und stabil erfasst werden.
Realistische 2D Particle-in-Cell Simulationen der Ladungsträgerdynamik in kapazitiv gekoppelten Radio-Frequenz Niederdruckplasmen
Regelung der Elektronendynamik in Radiofrequenz-getriebenen Mikroplasmajets für effiziente CO2-Konversion
Prozesskontrolle in Atmosphärendruck RF Mikroplasmajets durch Voltage Waveform Tailoring und maßgeschneiderte Oberflächen